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1.7艾柯案例:成都某电子科技公司新装艾柯中央纯水系统500L

时间:2026年1月7日

客户:成都某电子科技公司

地址:四川省成都市

设备:实验室纯水机

型号:AKZY-RO-500

水量:500L/H

设备水质参数:

进水水源 水温1—45℃ 水压1—5㎏ TDS﹤1000ppm

电 源 380V三项五线

功 率 3KW-5KW

机器重量 300㎏-500㎏

主机体积 长2180mm×宽780mm×高1730mm

取水种类 纯水/超纯水一体化系统,一机三用,可同时制备取用三种水质的水,即RO纯水、EDI水和UP超纯水

制 水 量 每小时200L

2026年1月7日,艾柯技术团队完成成都某电子科技有限公司实验室500L中央纯水系统的新装调试工作。作为专注于显示器件、电子元器件及专用材料研发制造的高新技术企业,某电子的实验室承担着核心产品性能测试、新型电子材料研发、元器件清洗工艺优化等关键任务,新系统将为多生产研发场景提供集中式、高纯度水源保障,为电子产品质量提升与技术创新筑牢水质根基。

电子制造与研发领域对纯水纯度要求极为严苛,尤其是显示器件清洗、电子专用材料合成等场景,需纯水电阻率稳定在18.25MΩ·cm、TOC≤3ppb,重金属离子含量低于0.1ppb,避免微量杂质导致器件性能衰减、研发数据偏差。结合成都地区原水特性及企业多生产线并行、日均用水需求大的工况,此次新装的500L中央纯水系统需兼具深度除杂能力、规模化供应效率与运行稳定性,以适配电子行业连续生产的严苛要求。

1.7艾柯案例:成都某电子科技公司新装艾柯中央纯水系统500L插图
1.7艾柯案例:成都某电子科技公司新装艾柯中央纯水系统500L插图1

此次新装的500L中央纯水系统针对性适配电子行业需求:采用“预处理+双级RO+EDI+抛光混床”核心工艺,搭载高截留率反渗透膜与专用抛光树脂,对原水中悬浮物、胶体、溶解盐及重金属的去除率达99.99%,可稳定产出符合GB/T 11446.1-1997电子级水标准的高纯水;系统产水速率达500L/h,配备大容量储水模块与多终端供水接口,可同时满足元器件清洗、材料合成、性能检测等多场景并行用水需求;搭载智能PLC控制系统与在线水质监测模块,实时显示电阻率、TOC等关键指标,数据可追溯导出,契合电子制造行业合规管理要求。

新装过程严格遵循电子行业洁净生产规范:技术团队提前与某电子研发及生产团队深度对接,梳理用水流程与工艺要求,采用分时段错峰作业模式,避免影响现有生产进度;安装全程执行无尘操作标准,接触纯水的管路选用316L不锈钢材质,杜绝二次污染;调试阶段模拟显示器件清洗、电子材料合成等实际工况,连续12小时监测水质稳定性与系统运行状态。经权威检测,设备产水电阻率稳定在18.25MΩ·cm,TOC值降至2.0ppb,各项杂质指标均符合电子级水严苛标准。

技术人员同步交付标准化运维手册,明确设备日常操作流程、高负荷运行下的养护技巧及耗材更换周期,并为企业运维人员开展专项操作培训。此次500L中央纯水系统入驻,是艾柯服务电子制造领域的重要实践,未来将持续聚焦电子、半导体等高端制造行业的个性化用水需求,以合规可靠的水质解决方案,为产业高质量发展提供坚实技术支撑。

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